3元マグネトロン
スパッタ装置（IB館）
薄膜を作製する装置です．本装置は，3つの4inchターゲットを備えており，カイラル磁性薄膜や巨大磁気抵抗効果を示す多層膜などを成膜しています．
装置仕様
島津製作所製
100mmφターゲット3台，高周波電源2台
到達真空度：3×10-5 Pa
逆スパッタ機構，基板水冷機構，
基板回転による多層膜作製機能
薄膜を作製する装置です．本装置は，3つの4inchターゲットを備えており，カイラル磁性薄膜や巨大磁気抵抗効果を示す多層膜などを成膜しています．
島津製作所製
100mmφターゲット3台，高周波電源2台
到達真空度：3×10-5 Pa
逆スパッタ機構，基板水冷機構，
基板回転による多層膜作製機能