6元マグネトロン
スパッタ装置
本装置は，メインチャンバ内に2inchターゲットを4つ備えており，複雑な多層膜を一度に作製することができます．さらに，サブチャンバ（サンプル交換室）内に2inchターゲットを2つ備えており，保護などの目的で層を追加することが可能です．
装置仕様
研究室の自作
到達真空度：1×10-5 Pa
2インチターゲット6台
（メインチャンバ4台、サブチャンバ（交換室）2台）
高周波電源 1台 直流電源 2台
Arイオン銃による基板クリーニング機構
基板回転およびシャッターの開閉制御による多層膜作製機能
基板ロードロック機構