5元マグネトロン
スパッタ装置1号機
本装置は，4つの3inchターゲットと1つの2inchターゲットを備えており，4種類以上の層から構成される複雑な多層膜でも一度に作製することができます．
装置仕様
研究室の自作
到達真空度：1×10-6 Pa
3インチターゲット4台 2インチターゲット1台
高周波電源 3台
基板の逆スパッタおよび基板バイアス機構
基板水冷機構
基板回転およびシャッターの開閉制御による多層膜作製機能
基板ロードロック機構
本装置は，4つの3inchターゲットと1つの2inchターゲットを備えており，4種類以上の層から構成される複雑な多層膜でも一度に作製することができます．
研究室の自作
到達真空度：1×10-6 Pa
3インチターゲット4台 2インチターゲット1台
高周波電源 3台
基板の逆スパッタおよび基板バイアス機構
基板水冷機構
基板回転およびシャッターの開閉制御による多層膜作製機能
基板ロードロック機構