4元電子ビーム
蒸着装置
電子ビームで材料を加熱し，成膜する装置です．超高真空中での成膜が可能で，非常にクオリティの高い膜が形成できます．その他，微細加工中の電極形成にも使用可能です．
装置仕様
研究室自作
到達真空度：1×10-7 Pa
蒸着源：電子ビーム加熱 電源1台
液体窒素シュラウド装備
水晶振動子型膜厚モニター装備
シャッター機構による膜厚制御
基板ロードロック機構および8元スパッタ・ 5元スパッタ装置への高真空中基板搬送機構
電子ビームで材料を加熱し，成膜する装置です．超高真空中での成膜が可能で，非常にクオリティの高い膜が形成できます．その他，微細加工中の電極形成にも使用可能です．
研究室自作
到達真空度：1×10-7 Pa
蒸着源：電子ビーム加熱 電源1台
液体窒素シュラウド装備
水晶振動子型膜厚モニター装備
シャッター機構による膜厚制御
基板ロードロック機構および8元スパッタ・ 5元スパッタ装置への高真空中基板搬送機構